thin film[박막]에 대한 정의(定義)와 제조방법 요점
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작성일 23-01-23 10:50
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- 전자장치를 작고 가볍게 한다. 이 현상은 히스테리시스 루프라는 모양의 그래프를 나타나게 되는데 히스테리시스 반전의 고속화라는 것은 이 루프의 기울기가 달라진다는 것이다.
thin film,박막
-얇고 치밀한 보호막으로, 성능이 뛰어나다. 주변에서 쉽게 볼 수 있는 박막기술을 이용해 만든 것은 ‘거울’인데 이것은 빛의 반사를 할 수 있는 유리의 한 쪽 면에 얇은 금속 코팅을 이용해 만든 것이기 때문이다
박막은 나노미터에서 마이크로미터 두께까지의 범위를 포함하는 얇은 물질 층이라고 할 수 있다. 주변에서 쉽게 볼 수 있는 박막기술을 이용해 만든 것은 ‘거울’인데 이것은 빛의 반사를 할 수 있는 유리의 한 쪽 면에 얇은 금속 코팅을 이용해 만든 것이기 때문이다.
- 얇고 표면적이 크다
이러한 박막화는
박막은 나노미터에서 마이크로미터 두께까지의 범위를 포함하는 얇은 물질 층이라고 할 수 있다.
나노박막구조의 종류
-발광박막같이 고휘도(매우 밝은)의 것을 만들 수 있다
-자성체 박막은 히스테리시스(hysteresis) 반전의 고속화를 가능하게 한다.
: 물체로부터 나오는 열에너지의 손실을 적게 하여 큰 전력을 다룰 수 있다
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다.
단결정 고체 표면에 같은 종류 또는 다른 종류의 금속 원자를 뿌려서 원자층 (atomic layer)를 만들때 그 성장하는 모양이 표면의 종류, 면의 orientation, 증착하는 원자의 종류등에 따라 매우 다른 현상을 보이는데 그 이유는 크게 표면의 원자의 크기와 증착하는 원자의 크기 차이, surface free energy 차이로 볼 수 있다
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설명
thin film[박막]에 대한 정의(定義)와 제조방법 요점
-재료가 적게 들고 소형의 것을 동시에 대량생산할 수 있다
-인덕턴스가 감소하고 고주파 property(특성)이 좋아진다. 전자기적 반도체 장치와 광학적 코팅은 박막기술의 주된 적용 범위라 할 수 있다.
: 히스테리시스는 물체의 성질이 현재의 상태만으로는 모르므로 과거의 이력이 어떠했는가에 따라 다른 현상을 말하는 것인데 철과 같은 강자성체를 자기장 안에 넣어 자화시키면 자기장을 벗어난 뒤에도 자성이 남아있는 현상을 말한다. 전자기적 반도체 장치와 광학적 코팅은 박막기술의 주된 적용 범위라 할 수 있다.
